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Les implants de Dentsply Sirona introduisent des innovations dans votre cabinet.
Trois conceptions d’implant pour une plus grande flexibilité chirurgicale
Choisissez la gamme d’implants EV pour la flexibilité chirurgicale et la clarté de restauration qu’elle offre. Les trois conceptions de corps d’implant donnent accès à la même plateforme de restauration grâce à une connexion EV commune. Ainsi, vous pouvez travailler selon vos préférences, sans contraintes pour les membres de votre équipe et vos autres partenaires.
Les implants partagent également des innovations éprouvées du Système implantaire Astra Tech Implant System EV pour maintenir la stabilité des tissus osseux et mous, tandis que la cohérence des flux de travail, les outils, les valeurs de couple et le codage couleur améliorent l’efficacité et réduisent le besoin de formation.
Un écosystème. Une connexion. Votre choix.
DENTISTERIE IMPLANTAIRE
Pourquoi choisir la gamme d’implants EV ?
Esthétique naturelle et préservation durable de l’os
Tous les implants de la gamme d’implants EV utilisent des innovations biologiques éprouvées du Système implantaire Astra Tech Implant System EV. Une base scientifique, pour que vous et votre patient puissiez être confiants dans le résultat.
Éliminez l’incertitude de votre flux de travail
Tous les implants de la gamme d’implants EV utilisent les mêmes prothèses, flux de travail, outils, valeurs de couple, code couleur et plus encore. Cela développe l’expertise et réduit le besoin d’inventaire et de formation.
Liberté de travailler comme vous le souhaitez
La connexion EV donne accès à la même gamme de prothèses EV avec tous les implants. Disponible dans différents matériaux adaptés à votre méthode de restauration et aux attentes esthétiques, quel que soit l’implant EV utilisé.
Flexibilité chirurgicale pour répondre à tout besoin clinique
La gamme d’implants EV se compose de trois implants haut de gamme avec des conceptions différentes pour votre technique chirurgicale préférée. Vous pouvez choisir parmi cinq diamètres d’implants, sept longueurs et cinq formes d’implants pour répondre à tous les besoins cliniques.
Améliorer l’efficacité et l’acceptation
Les flux de travail DS du scanner à la couronne réduisent les étapes, les risques et le temps au fauteuil. L’efficacité augmente le nombre de patients traités, tandis qu’une communication plus claire avec les patients conduit également à une meilleure acceptation.
À propos de la gamme d’implants EV
L’ADN partagé donne confiance quel que soit l’implant que vous choisissez
Fort de quatre décennies de développement continu et d’innovations réussies reconnues par 1 100 études cliniques, le Système implantaire Astra Tech Implant System EV a été le pionnier du développement de conceptions d’implants axé sur la biologie pour une esthétique naturelle et des soins osseux durables. Ces innovations éprouvées sont aujourd’hui l’ADN partagé de tous les implants de la gamme d’implants EV :
Connexion EV – une connexion offrant une clarté à la restauration
Tous les implants de la gamme d’implants EV partagent la même connexion EV. Cela signifie que vous pouvez choisir votre système d’implant préféré sans imposer de contraintes à vos partenaires. En plus de la mise en place à une seule position des piliers Atlantis adaptés aux patients, la conception unique de leur interface permet une indexation à six positions pour des piliers préfabriqués, ainsi qu’une mise en place dans n’importe quelle position de rotation pour les piliers non indexés.
Surface de l’implant OsseoSpeed – plus d’os, plus rapidement
Une surface en titane chimiquement modifiée, avec une topographie à l’échelle nanométrique unique, qui stimule la vitesse de cicatrisation osseuse et accélère le processus de cicatrisation. Il en résulte une formation osseuse accrue et une liaison entre l’os et l’implant plus forte. Les avantages cliniques d’OsseoSpeed sont à la fois prouvés et bien documentés. D’après une étude systématique et une méta-analyse1, OsseoSpeed démontre une qualité nettement supérieure concernant le maintien de l’os marginal que les surfaces des concurrents, dans les suivis à 1 et à 5 ans.
MicroThread – Une stimulation osseuse biomécanique
Étant donné que le tissu osseux est conçu pour supporter des charges, MicroThread stimule mécaniquement l’os environnant afin de le préserver. Ceci est particulièrement important au niveau de l’interface implant-os située au niveau de l’os cortical marginal, car c’est là que les tensions maximales se produisent. Les filetages minuscules sur le col de l’implant permettent une répartition optimale des charges et de la tension.
Conical Seal Design – un ajustement sécurisé, solide et stable
Conical Seal Design offre un ajustement sécurisé, solide et stable entre l’implant et le pilier, réduit les pics de tension et préserve ainsi l’os marginal. L’intérieur de l’implant est complètement isolé des tissus environnants, minimisant les micromouvements et les microfuites.
Chambre SoftTissue – Un volume accru des tissus mous et une esthétique naturelle
Cette chambre tridimensionnelle est créée entre le décalage horizontal de l’implant et la conception externe du pilier. Elle permet d’augmenter la zone de contact des tissus mous conjonctifs, à la fois en hauteur et en volume, qui s’intègre à la partie transmuqueuse de l’implant, avec pour effet d’isoler et de protéger l’os marginal.
Faites confiance en nos connaissances en matière d’os pour améliorer les vôtres
La surface de l’OsseoSpeed utilisée pour les implants OmniTaper EV est inégalée en matière de maintien de l’os marginal, selon une méta-analyse1 récente réalisée par le Dr Michael Norton. Voici quelques-unes de ses principales conclusions :
- OsseoSpeed offre un meilleur maintien de l’os marginal par rapport à d’autres surfaces premium dans les suivis à un et à cinq ans
- OsseoSpeed offre une meilleure prévisibilité que les produits de la concurrence
1. Norton, MR, Åstrom, M, The Influence of Implant Surface on Maintenance of Marginal Bone Levels for Three Premium Implant Brands: A Systematic Review and Meta-analysis. Int J Oral Maxillofacial Implants 2020;35(6):1099-111
